進入20世紀90年代以后，隨著我國高新技術的快速發展，計算機工業對大規模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加；隨著新型能源的發展，我國大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產；此外，新型電光源、光電半導體器件（GaAs、InP、AlGaAs）、光纖通訊器件也獲得迅猛發展，在上述高新產品的生產中，都需要大量高純氣體，以制造出性能可靠的各種器件。

大規模集成電路
化學氣相沉淀：SiH₄，NH₃，O₂，N₂O，TEOS（四乙氧基硅）
化學刻蝕：CF₄，SF₆，NF₃，Cl₂，CCl，BCl₃，KrF，ArF，HBr，HCl
化學摻雜：BF₃，B₂H₆，PH₃，AsH₃

液晶屏
化學氣相沉淀：SiH₄，SiNx
化學刻蝕：SF₆，HCl，Cl₂

太陽能電池
化學氣相沉淀：SiH₄，NH₃，NF₃
擴散、刻蝕：POCl₃，O₂，CF₄

光電半導體
化學氣相沉淀：AsH₃，PH₃，NH₃，N₂，H₂
化學刻蝕：BCl₃，Cl₂

光導纖維
化學氣相沉淀：SiH₄，SiCl₄，D₂，GeCl₄
化學刻蝕：CF₄，KrF，ArF，Cl₂，SF₆